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Info

Laboratório de Superfícies Nanoestruturadas – LabSurf

O LabSurf é um laboratório multiusuário do CBPF com o objetivo da modificação física, química e óptica de superfícies, para a pesquisa e produção de novos materiais nano estruturados na forma de recobrimentos de: materiais magnéticos, biomateriais, óxidos metálicos, cerâmicas, materiais supercondutores, multiferróicos e termoelétricos entre outros. Além de utilizar técnicas físicas como Magnetron Sputtering, Este laboratório também desenvolve Instrumentação científica e tecnológica para essas técnicas.
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Publicado em 19/01/2022 11h41 Atualizado em 20/10/2023 15h44

COORDENAÇÃO


 RESPONSÁVEL TÉCNICO CIENTÍFICO   


 LOCALIZAÇÃO E RAMAL


 ÁREA DE ATUAÇÃO


 PRINCIPAIS TÉCNICAS


 PRINCIPAL(IS) EQUIPAMENTO(S) 


 MEMBROS E COLABORADORES


  PÁGINA DO LABORATÓRIO



COORDENAÇÃO

 COMAN


RESPONSÁVEL TÉCNICO CIENTÍFICO

Alexandre Mello – mello@cbpf.br – (21)21417129

SUBSTITUTO: Rubem Luís Sommer – sommer@cbpf.br – (21)21417279


LOCALIZAÇÃO E RAMAL

Edifício César Lattes– térreo – SALA

Ramal:  


ÁREA DE ATUAÇÃO

  • Física de Superfícies;
  • Física da Matéria Condensada;
  • Ciência e Engenharia de Materiais;
  • Análise e Caracterização de Materiais;
  • Física Aplicada;
  • Física de Plasmas Tecnológicos Confinados Magnetricamente;
  • Biomateriais;
  • Materiais Magneticos e Multifuncionais;
  • Caracterização Física, estrutural, cristalográfica, química e de Superfícies.

PRINCIPAIS TÉCNICAS

  • Deposição de filmes finos por pulverização catódica;
  • Deposição física a vapor- PVD;
  • Magnetron Sputtering;
  • Espectroscopia de fotoelétrons XPS.

PRINCIPAL(IS) EQUIPAMENTO(S) 

Sistema de Sputtering e Electron beam (AJA) Equipamento Multiusuário

É um sistema de deposição física por magnetron sputtering de filmes finos ou revestimentos na escala nanométrica de até 7 materiais ou alvos diferentes, podendo ser eles metálicos, semicondutores, cerâmicos, óxidos, nitritos etc. ou compostos e ligas, depositados sobre substratos planos de silício, vidro ou metal. Deposição por evaporação térmica por eléctron beam de até 5 materiais diferentes. Câmara de carregamento (load lock e câmara de vácuo principal com pressão de base de 10-8 Torr. As técnicas utilizadas nesse equipamento são: Deposição com electronBeam; Deposição por pulverização catódica assistida por Rf, DC ou reativa; Deposição de multicamadas de filmes finos; Deposição por magnetrons sputering DC, RF e reativo; Tratamento térmico insitu de filmes depositados por sputtering; Deposição de filmes com Bias Sputtering; Deposição de filmes finos.


MEMBROS E COLABORADORES

CBPF 

Pesquisadores, Tecnologistas e Técnicos 

  • Alexandre Mello de Paula Silva;
  • Rubem Luís Sommer;
  • João Paulo Sinnecker;
  • Alexandre Malta Rossi;
  • André Linhares Rossi;
  • Elena Mavropoulos Oliveira Tude.

Pós Graduandos

  • Edher Herrera (Doutorado Acadêmico);
  • Gabriel Gama (Doutorado Acadêmico);
  • Alexandre Gonçalves Gerk (Mestrado Profissional);
  • Rafael Lima (Mestrado Profissional);
  • Joubert Vieira Santos (Mestrado Profissional);

Bolsistas PCI

  • Ricardo Santos Mendes (PCI).

Projeto CBPF/CENPES

  • Elvis Oswaldo Lopez Meza, PhD;
  • Bruno Gomes da Silva, PhD;
  • Cilene Labre Alves da Silva de Medeiro, PhD;
  • Eduardo López Sandoval, PhD;
  • Paula Roberta Nazareth de Aguiar Martins, PhD;
  • Eduardo Francisco Mesquita de Sá. BSc.

COLABORADORES

  • Fabio Borges de Oliveira (UFF); 
  • Fabrício Frizera Borghi (UFRJ);
  • Marcelo Werneck (COPPE/UFRJ);
  • Sergio Camargo (COPPE/UFRJ);
  • Rogelio Ospina Ospina (Universidad Industrial de Santander (UIS) - Colômbia). 
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